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二硫化钼

二硫化钼涂层的制备方法很多,主要有物理气相沉积、化学气相沉积、电镀、化学镀等。在过去很长一段时间里, 制备MoS2 薄膜的方法主要是真空等离子溅射技术。这种方法能严格控制薄膜的厚度, 且能提供较好的薄膜性能。但是, 它存在以下缺点:
(1) 它对溅射靶的质量要求相当严格, 一般在生产高质量的薄膜之前需要更换一个新靶, 耗费较大;
(2) 相对于特殊形状的基底需配置相应配套的溅射靶, 且为沉积形状复杂的薄膜而采用的复杂的真空设备及其过程的耗费相当大;
(3) 溅射法制备的薄膜较理想的保存方法是硫化处理, 但这会使薄膜表面产生许多小孔, 易受化学侵蚀, 导致薄膜的性能下降;
(4) 不适合于沉积形状复杂、大面积薄膜等。由于存在以上缺点, 所以人们开始寻求一种更好的方法来制备MoS2 薄膜。本文作者采用水煮法、刷镀法(喷涂法) 和电泳沉积法等3种MoS2 的涂覆方法, 制备了二硫化钼涂层, 并比较了各种涂层的性能。